三温区真空管式气氛炉

三温区真空管式气氛炉介绍

三温区真空管式气氛炉，也叫做管式气氛炉、三温区管式气氛炉、三温区管式炉等等，是一种高温热处理设备（最高1600℃），广泛应用于材料科学、半导体、粉末冶金、陶瓷烧结以及气氛保护热处理等领域。

它具有多个温控区，可实现精确的温度梯度控制，提高实验效率和热处理烧结工艺的可控性。

三温区真空管式炉实拍

三温区真空管式气氛炉主要特点

1、三温区独立控制：每个温区均可独立设定温度，实现均匀加热或设定温度梯度。

2、高真空及多种气氛控制：可通入氮气、氩气、氧气、氢气等，适用于不同的工艺需求。

3、高精度温控系统：采用PID调节，温度控制精度高，通常可达±1℃。

4、优质加热元件：采用硅钼棒、硅碳棒或电阻丝，最高温度可达1200℃、1400℃、1600℃等。

5、石英或刚玉管炉膛：根据实验需求选用不同材质的炉管，耐高温、抗腐蚀。

6、真空系统：可配备机械泵、分子泵等，实现高真空环境，满足特殊实验要求。

7、安全防护系统：包括超温报警、断偶保护、漏电保护等，确保实验安全。

三温区真空管式炉设备实拍

三温区管式炉侧面实拍

三温区真空管式气氛炉应用领域

材料研究：如新型合金、陶瓷材料的烧结与退火

半导体与电子：如石墨烯生长、半导体器件退火

粉末冶金：如金属粉末的烧结与致密化

新能源材料：如锂电池正负极材料的合成与优化

如果你需要推荐具体型号或定制方案，可以告诉我你的具体需求，比如温度范围、管径、真空度要求等，我可以帮你选型或提供一些技术建议。