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真空坩埚炉
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真空坩埚炉

  • 热场/炉膛:陶瓷纤维炉膛
  • 加热元件:电阻丝,硅碳棒,硅钼棒
  • 最高温度/工作温度:1200℃/≤1100℃,1400℃/≤1300℃,1700℃/≤1600℃
  • 真空度:低真空,非真空
  • 气氛条件:惰性气氛(N2、CO2、Ar2等),空气
  • 适应单位:高等院校、科研单位等。
  • 应用行业:材料熔炼:玻璃等
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真空坩埚炉的简介

真空坩埚炉是一种基于真空隔热原理设计的实验室热处理设备,主要用于材料在高温条件下的热处理、熔融、烧结等实验操作。

真空坩埚炉具有操作简便、节能环保、安全可靠等优点,能够满足各种实验室热处理需求。

真空坩埚炉的组成结构

真空坩埚炉主要由以下几个部分组成:

炉体:

采用优质耐高温材料制作,具有高强度、耐高温、耐腐蚀等特点,能够承受高温和高压。

加热系统:

采用先进的电阻加热技术,具有升温速度快、温度控制准确、操作简便等优点。

坩埚:

采用耐高温材料制作,具有高强度、耐高温、耐腐蚀等特点,能够承受高温和高压。

真空系统:

包括真空泵、真空测量仪等设备,能够实现炉内真空环境。

密封系统:

包括门封条和密封条,采用高强度硅胶密封材料,能够保持炉体密封性,减少热量损失和外界干扰。

冷却系统:

包括冷却风机、冷却水管道等设备,能够实现炉体快速降温。

控制系统:

包括温度控制器、计时器等设备,能够实现自动化实验和远程控制。

安全系统:

包括烟雾探测器、报警器等设备,能够保障实验安全。

支架:

设备配有稳固的支架,方便实验操作和设备稳定。

技术参数

炉膛尺寸
宽x高x深
单位毫米
电压
AC V
最大功率 KW
(根据升温速率而定)
炉体尺寸
宽x高x深
单位毫米
200×150×150380/2205650×750×650
240×130×130380/2205650×750×650
300×200×20038010980×800×800
400×200×200380121080×800×800
500×300×200380151200×900×800
500×300×300380181200×900×900
600×400×400380241350×1000×1000
800×500×500380351600×1100×1200

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