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氮化铝陶瓷基板烧结炉
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氮化铝陶瓷基板烧结炉

  • 热场/炉膛:陶瓷纤维炉膛,石墨炉膛
  • 加热元件:硅钼棒,石墨
  • 最高温度/工作温度:1800℃/≤1750℃,2200℃/≤2200℃
  • 真空度:根据具体条件选配.
  • 气氛条件:惰性气氛(N2、CO2、Ar2等)(选配)
  • 适应单位:
  • 应用行业:碳化硅陶瓷无压烧结、重结晶碳化硅陶瓷烧结、氮化铝陶瓷烧结、高性能陶瓷基板烧结、对收缩尺寸成品密度一致性要求高的精密陶瓷烧结、粉末冶金烧结或其他金属材料和非金属材料的高温真空烧结。
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设备介绍

氮化铝烧结炉(卧式)主要用于半导体领域的氮化铝陶瓷胚体和制品的气氛烧结、真空烧结.

应用范围:

载盘、导轨和工件台、机械臂、静电吸盘、透明陶瓷、靶材等、高导热基板、加热器、结构件.

结构特点:

1、采用特殊的炉胆结构和加热器布置,炉温均匀性好;

2、全密闭马弗,密封效果好,抗污染能力强;

3、可具备真空烧结、负压脱脂烧结、载气脱脂烧结等功能;

4、可选配脱脂系统,实现陶瓷制品的脱脂烧结一次性处理;

5、适于工艺气氛:N2/Ar/H2.

陶瓷基板烧结炉

氮化铝烧结炉设备工厂实景

技术参数

型号加热区温度功率电源
BR-18GVF-223200*200*3001800℃45kW380V
BR-18GVF-334300*300*4001800℃60kW380V
BR-18GVF-446400*400*6001800℃90kW380V
BR-18GVF-557500*500*7001800℃150kW380V
BR-18GVF-669600*600*9001800℃180kW380V
型号加热区温度功率电源
BR-22GVF-223200*200*3002200℃45kW380V
BR-22GVF-334300*300*4002200℃60kW380V
BR-22GVF-446400*400*6002200℃90kW380V
BR-22GVF-557500*500*7002200℃150kW380V
BR-22GVF-669600*600*9002200℃180kW380V

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